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低溫等離子處理設備
發布時間:2018-05-30  瀏覽:
低溫等離子處理設備雖然整體表現的溫度并不高,但其內部因質量較輕而高速運動的電子溫度卻很高,能量很大。在低溫等離子體中除了處于高速運動狀態的電子外;還存在大量處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等活性粒子。利用低溫等離子體中這些處在激發狀態下的物質,可對各種材料表面作各種處理,而不傷及物質原有的本質特征。近年來,低溫等離子體表面處理技術正被各行各業所廣泛應用,取代傳統濕法表面處理,取得了良好的經濟效益與絢麗多彩的科技成果。

產品優點:
☆ 可選配多種類型噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環境;
☆ 具有RS485/232數字通訊口和模擬量控制口,滿足客戶多元化需求。
☆ 設備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節省客戶使用空間;
☆ 可In-Line式安裝于客戶設備產線中,減少客戶投入成本;
☆ 使用壽命長,保養維修成本低,便于客戶成本控制;
☆ 主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;國防工業的航空航天電連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

產品參數:
名稱:噴射型AP等離子處理系統
型號:CRF-YHB1
電源:220V/AC,50/60Hz
功率:1000W/25KHz
處理高度:5-15mm
處理寬幅:1-6mm(Option)
內部控制模式:數字控制
外部控制模式:RS485/RS232數字通訊口、 模擬量控制口
工作氣體:Compressed Air (0.4mpa)


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